扩散炉工作区间内(800到1000mm)一般需要±01℃(个别要求±0.5℃)。多数情况下只使用外温控制,内温只在数据测试(Profiling)和2-3周一次的矫正时使用。不同晶片及数量的要求内温相对外温设定值由profiling给出。使用内温时,使用串级控制,内温输出作为外温设定值使用。为防止电流过大,会加一些电流限定或限制值斜坡。外温取2热电偶之高值。一般800到1200度内扩散,一次约12-14小时。